Оксид гафния (IV), 99,9% HfO2 - это стабильное соединение гафния и кислорода. Оно является электрическим изолятором. Оксид гафния (IV) достаточно инертен и реагирует сильно только с кислотами, такими как концентрированная серная кислота и щелочами. При нагревании он реагирует с хлором в присутствии графита или тетрахлорметана углерода, чтобы образовать тетрахлорид гафния.
Гафний используется в атомной энергетике благодаря своей способности захватывать нейтроны. Он применяется в производстве регулирующих стержней, специальной керамики и стекла (оксид, карбид, борид, оксокарбид, гафнат диспрозия, гафнат лития). Гафний также используется в оптике из-за его температурной стойкости (т. пл. 2780°C) и очень высокого показателя преломления. Он используется в производстве тугоплавких и жаропрочных сплавов, в изготовлении постоянных магнитов, ламп накаливания, добавок в ракетные топлива и др
Характеристики оксида гафния (IV), 99,9% HfO2
Температура кипения (°С) | 5400 |
Плотность (г/см³) | 9.68 |
Температура плавления (°С) | 2810 |
Молекулярная формула | HF О2 |
Молекулярная масса | 210.49 |
Фасовка | 5 г |
Химический состав | HfO2 |
---|
-
Еще не было вопросов